一、 序言

半導體清洗，用于去除芯片生産中産生的各種(zhǒng)沾污雜質，是芯片制造中步驟最多的工藝。每成全MV一步光 刻、刻蝕、沉積、離子注入、CMP（化學(xué)機械抛光）後(h噼裡中文版òu)均需要清洗。長(cháng)久以來，半導體清洗設備沒(méi) 有光刻GO飄雪機、刻蝕機、沉積設備的耀眼光芒，常常被(bèi)人們所忽視，甚至有人認為，芯片生産中所用MV在線的 清洗設備，并不具有很高的技術門檻。事(shì)實真的如此嗎？半導體免費國語清洗設備是好(hǎo)的投資賽道(dào)嗎？國(guó)産 替代免費資源進(jìn)度又如何？本文將(jiāng)從半導體清洗工藝、清洗設備技術難度、市場姐姐高清空間、競争格局等角度，來 探讨上述問題。

二、 半導體清洗，芯片制造的重要環節

1.1 污染源：顆粒、金屬、有機物等沾污，芯片良率下降的罪魁

芯片制造需要在無塵室中進(jìn)行，如果在制造過(guò)程中高清版在線，有沾污現象，將(jiāng)影響芯片上器件的正常功能(néng)。 沾污雜質是指半導體制造過(MV動漫guò)程中引入的任何危害芯片成(chéng)品率及電學(xué)性能(néng)的物質。沾污雜啪啦中文版質導緻芯片 電學(xué)失效，導緻芯片報廢。據估計，80%的MV姐姐芯片電學(xué)失效都(dōu)是由沾污帶來的缺陷引起(qǐ)的。通常，無 塵室中的沾丁香花MV污雜質分為六類：

顆粒：顆粒是能(néng)粘附在矽片表面(miàn)的小物體，飄雪視頻顆粒能(néng)引起(qǐ)電路開(kāi)路或短路。從尺寸上來說(shuō)，半導 體直播丁香花制造中，顆粒必須小于最小器件特征尺寸的一半，大于這(zhè)個尺寸的顆粒會(huì)引起(qǐ)在線國語緻命缺陷。從 數量上來說(shuō)，矽片表面(miàn)的顆粒密度代表了特定面(mi美麗姐姐àn)積内的顆粒數，顆粒數越多，産生緻命缺陷的 可能(néng)性也越大。一道(dào)工序引入到國語動漫(dào)矽片中超過(guò)某一關鍵尺寸的顆粒數，術語表征為每步每片上的 顆粒數噼裡GO（PWP），随著(zhe)先進(jìn)制程的進(jìn)步，PWP高清版在線 指标要求越來越高。

金屬雜質：危害半導體工藝的典型金屬雜質是堿金屬，如鈉、鉀、锂等；重金屬也會(中文版動漫huì)導緻金屬 污染，如鐵、銅、鋁、鉻、鎢、钛等。金屬雜質可能(néng)來自化學(噼裡視頻xué)溶液或者半導體制造中的各種(zhǒng)工 序，如離子注入等，也可能(中文版大地néng)來自化學(xué)品與傳輸管道(dào)和容器的反應。

有機物沾污：有機物主要指包含碳的物質，它們可能(néng)來自于細菌、潤滑劑、蒸汽、清潔劑、溶 噼裡丁香花劑和潮氣等。

自然氧化層：如果矽片被(bèi)暴露于室溫下的空氣或含溶解氧的去動漫藝術離子水中，矽片的表面(miàn)將(jiāng)被(bèi)氧化， 這(zhè)大地GO一薄氧化層被(bèi)稱為自然氧化層。自然氧化層一方面(mi啪啦國語àn)妨礙其他工藝步驟，如單晶薄膜的生長(cháng)； 另一方面(m國語TViàn)增加接觸電阻，減少甚至阻止電流流過(guò)。

犧牲層：為了形成(chéng)半導體微機結構的空腔或可活動的噼裡姐姐微結構，往往需要犧牲層支持，犧牲層起(qǐ) 分層作用，當上層膜形成(ché在線MVng)後(hòu)，需要將(jiāng)此層腐蝕掉。犧牲層若未被(bèi)清洗幹淨影院啪啦，將(jiāng)造成(chéng)器件電性失 效。

抛光殘留物：要獲得質量好(hǎo)的抛光片，必須使抛光過(guò)程中的化學(xu動漫動漫é)腐蝕作用與機械磨削作用達到(dào) 一種(zhǒng)平衡。抛光過(guò)後(好姑娘視頻hòu)，殘留物對(duì)後(hòu)續工藝會(huì)造成(chén動漫高清g)較大影響，因此需要及時(shí)清洗

半導體清洗指對(duì)晶圓表面(miàn)進(jìn)行無損傷清洗，用于去除半導體高清版在線矽片制造、晶圓制造和封裝測試每個步 驟中可能(néng)産生的雜質，避免雜質影響芯片良率姐姐國語和性能(néng)。

清洗工藝貫穿整個半導體生産過(guò)程：

1） 在矽片制造環節，經(jīng)抛光後(hòu)的矽片，需要通過(guò)清藝術資源洗工藝保證其表面(miàn)的平整度和性能(néng)，從而提高 在後(hòu)續工藝中影院噼裡的良率。

2） 在晶圓制造環節，晶圓經(jīng)過(guò)光刻、刻蝕、沉積等關鍵工美麗GO序前後(hòu)均需要清洗，去除晶圓沾染的化 學(xué)雜質，減小缺陷率。

3） 在芯片封裝階段，芯片需要根據封裝工藝進(jìn)行 TSV（矽穿免費MV孔）清洗、UBM/RDL（凸點底層金屬 /薄膜再分布技術）清洗。

三大環節中，晶圓制造環節的清洗步驟最多，清洗設備運用也最多，幾乎每一步光刻、刻蝕、沉積動漫美麗、 離子注入、CMP（化學(xué)機械抛光）均需要經(jīng)曆清洗工藝。

1.2 清洗方法：濕法清洗占據主導，物理方法決定工藝難度

根據清洗介質不同，半導體清洗技術主要分為濕法清洗和幹法清洗兩(liǎng姐姐丁香花)種(zhǒng)工藝路線。目前濕法清洗是 主流的技術路線，占芯片制造清洗步驟數姑娘GO量的 90%以上。

濕法清洗是針對(duì)不同的工藝需求，采用特定化學(xué)藥液和去離子水，對(姐姐飄雪duì)晶圓表面(miàn)進(jìn)行無損傷清洗， 以去除晶圓制造過(guò)程中的直播大地顆粒、自然氧化層、有機物、金屬污染、犧牲層、抛光殘留物等物質，GO丁香花 可同時(shí)采用超聲波、加熱、真空等物理方法。

幹法清洗指不使用化學(xué)溶劑的清洗技術，主要包括等離子清洗、超臨界氣相清洗、束流清洗等視頻噼裡。

1）濕法清洗——化學(xué)方法

濕法清洗可以進(jìn)一步分為化學(xué)方法和物理方法。化學(xué)藝術飄雪方法采用化學(xué)液實現清洗，随著(zhe)工藝的改進(jìn)， 化學(xué)清洗方中文版免費法朝著(zhe)減少化學(xué)液的使用量和減少清洗步驟兩(li大地飄雪ǎng)個方向(xiàng)發(fā)展。化學(xué)清洗方法包括包括 RCA、 改進(jìn直播美麗) RCA、IMEC 等。

①RCA 清洗：由美國(guó)無線電公司（RCA）于 20 世紀 60 年代提出，目前被(b好姑娘飄雪èi)認為是工業标準濕法清 洗工藝。該方法主要由一系列有序侵入不同的化學(xué)液組成(ché資源視頻ng)，即 1号标準液（SC1）和 2号标準液（SC2）。 1号标準液化學(xué)配料為：N姐姐姑娘H4OH：H2O2：H2O(1:1:5），2号标準液化學(xué)配料為MV姑娘：HCL：H2O2：H2O(1:1:6)。

②改進(jìn) RCA清洗：RCA 清洗使用了大量的化學(xué)液，實際應用中丁香花在線被(bèi)做了改進(jìn)。改進(jìn) RCA 清洗方法主 要稀釋了化學(xué)液，SMV噼裡C1 化學(xué)液比例由傳統的 1:1:5 稀釋為 1:4高清藝術:50。稀釋化學(xué)液對(duì)人體健康安全有很 多改善，同時(影院飄雪shí)減少了化學(xué)液的使用，降低了工廠成(chéng)本及對(duì)環境的污染丁香花高清版。

③臭氧清洗：臭氧清洗是一種(zhǒng)高效而簡單的清洗方法。通過(guò)加入臭氧及雙氧水到(d美麗飄雪ào)氫氟酸中可有效去 除金屬離子。

④IMEC清洗：IMEC（Interuniversity Microelectronics Ce在線國語nter）在清洗工藝技術中做了大量的研究 工作，其中最重要的貢獻是應用了稀釋的 R啪啦姐姐CA 清洗技術，并且 IMEC已經(jīng)描繪出未來的清洗技術發(fā) 展方向(成全影院xiàng)：清洗技術是朝著(zhe)減少化學(xué)液及清洗流程的方向(xià飄雪成全ng)發(fā)展。

2）濕法清洗——物理方法

物理清洗方法：物理方法通常作為輔助方法，結合化學(xué)液實現更好(hǎo)的MV藝術清洗效果。物理清洗方法包括 機械刷洗法、超聲波/兆聲波清洗法、TV成全二流體清洗法、旋轉噴淋法等。當今半導體清洗工藝，化學(xué)藥 液基本相同，輔助的物免費MV理方法往往成(chéng)為不同工藝的主要差别，也成(chéng)為半導體大地國語清洗工藝的核心難點。

①機械刷洗法：配置專用刷洗器，利用刷頭與晶圓表面(miàn)的摩擦力，配合去離子水大地大地以達到(dào)去除顆粒雜 質的清洗方法。

②超聲波/兆聲波清洗：超聲波常被(bèi)用作一種(zhǒng)輔助的能(nén丁香花在線g)量來源，它可以配合 SC1等藥液，加強清洗效 果。其原理高清版好姑娘是超聲波通過(guò)清洗液體傳播，液體中的氣泡在聲波的驅動下，會(huì)快速的GO啪啦變大變小，産生 沖擊力，從而驅動顆粒脫離矽片表面(miàn)。但當姐姐MV振幅很大時(shí)，有些氣泡會(huì)破裂，在局部産生非常大的沖 擊力。

超聲波的頻率是重要的參數，頻率越低，氣泡破裂的可能(néng)性越大，沖在線飄雪擊力越大；頻率越高，氣 泡振幅越小，來不及破裂就(jiù)進(jìn)入縮小周高清姑娘期，同時(shí)也減少了氣泡數量，降低了沖擊力。通常將(jiāng)頻 率 20-40kHz 稱啪啦高清版為超聲波清洗，1-4MHz 工藝頻率稱為兆聲波清洗。随著(zhe)特征尺寸的減小，飄雪噼裡沖擊 力大容易導緻圖形倒塌，因此常用的頻率為 1-4MHZ，以保持适當的沖擊力。

超聲波技術的關鍵是如何得到(dào)均勻的能(néng)量，盛美專利技術 SAPS（高清飄雪Space Alternative Phase Shift， 空間交替相移技術），通過(guò)周高清國語期性變化的超聲波與矽片的距離，以及間斷性的開(kāi)關兆聲波動漫大地發(fā)生器， 使得一定時(shí)間内，傳遞到(dào)矽片上的總能(néng)量相等啪啦中文版。克服了超聲波能(néng)量均勻性難題，在實際運用中 效果良國語姐姐好(hǎo)。

③旋轉噴淋法：基于噴嘴的清洗方法（Nozzle based），特點是通過(gu直播飄雪ò)不同的噴嘴，噴出不同的藥液， 例如水柱、水霧等，利用沖擊力去除顆粒。沖擊力噼裡GO的大小取決于液體顆粒的大小以及速度。該技術 的發(fā)展分為兩(liǎ飄雪直播ng)個階段：

早期的 Jet 工藝：直接噴水柱到(dào)旋轉的矽片上，沖擊力大，清洗效果不錯，但大地國語容易導緻圖形坍 塌。

之後(hòu)推出 Nano Spray 技術：將(jiān在線視頻g) N2通入去離子水中，形成(chéng)水霧，以很高的速度噴到(dào)矽片表面(mià免費資源n)， 成(chéng)為去除顆粒的動力，以解決圖形坍塌問題國語GO。這(zhè)種(zhǒng)技術中，水珠顆粒越大，沖擊力越大。如何 得到(dào)小且均資源飄雪勻的水珠是關鍵技術。水珠的大小主要通過(guò)改變噴嘴孔徑實現，通過(guò)調節 N2的大TV免費小 也能(néng)改變沖擊力。

④二流體清洗方法：一種(zhǒng)精細化的水氣二流體霧化噴嘴，在噴嘴的兩(liǎng)端分别通入啪啦中文版液體介質和高純氮 氣，使用高純氮氣為動力，輔助液體微霧化成(chéng)極微細的液體粒子被(b國語成全èi)噴射至晶圓表面(miàn)，從而達到(dào)去除 顆成全姐姐粒的效果。這(zhè)樣(yàng)的流體接近液體的密度，接近氣體的表面(miàn姑娘GO)張力以及粘性，适用于高深寬比結構， 或是不能(néng)沾水表面(miàn)的清洗。

3）幹法清洗

除濕法清洗外，同樣(yàng)存在幾種(zhǒng)幹法清洗方法，不過(丁香花美麗guò)運用較少，包括：

①等離子體基幹法清洗：在強電場作用下，使氧氣産生等離子體，迅速使光刻膠氣化成(chéng)動漫高清為可揮發(fā)性 氣體狀态物質并被(bèi)抽走。

②氣相清洗：利用液體工藝中對(duì)應物質的氣相等效物與圓片表面(miàn)的沾污雜質相互作直播GO用。

③束流清洗：利用高能(néng)量的、呈束流狀的物質流，與圓片表面視頻GO(miàn)的沾污雜質發(fā)生相互作用，從而清除 晶圓表面(miàn)雜質。

1.3 本章小結

經(jīng)過(guò)以上分析，我們得出以下結論：

（1）半導體清洗是芯片制造的重要環節。如果清洗精度不夠，殘留雜質將(jiāng)導緻芯片電學(x飄雪資源ué)失效。芯片 生産中，80%的電學(xué)失效都(dōu)是由沾污帶來的缺陷引起(直播免費qǐ)的，半導體清洗工藝對(duì)芯片良率至關重要。

（2）半導體清洗工藝難點在于不同的物理輔助方法。半導體清洗主要采用濕法工藝，即利用化在線美麗學(xué)藥 液清洗，同時(shí)常常借助物理方法增強清洗效大地姐姐果，如超聲波/兆聲波、旋轉噴淋、二流體等方法。清洗 過(gu直播高清版ò)程中，化學(xué)藥液基本相同，輔助方法往往成(chéng)為清洗工藝的噼裡視頻主要難點。

二、 清洗設備：全球市場超 30 億美元，DNS 是絕對(duì)龍頭

2.1 清洗設備：芯片良率的重要保障，單片設備成(chéng)為主流

半導體清洗設備通過(guò)不斷將(jiāng)各種(zhǒng)動漫GO污染雜質控制在工藝要求範圍内，提高芯片的良率和性能(néng)姑娘高清版，是芯片 良率的重要保障。随著(zhe)芯片技術的不斷提升，清洗設姑娘成全備的要求也越來越高。根據結構清洗設備可分 為單片清洗設備、槽式清洗設備、批式旋轉噴淋清洗設備高清版噼裡、洗刷器等。

在集成(chéng)電路制造的先進(jìn)工藝中，單片清洗設備已取代槽式設備成(ché在線丁香花ng)為主流，主要由于：

1) 單片清洗能(néng)夠在整個制造周期提供更好(hǎo)的工藝控制，改善了單個晶圓在線在線和不同晶圓間的均勻性， 提高了産品良率；

2) 更大尺寸的晶圓和更先進(jìn)的工藝對(duì)于雜質更敏感，槽在線高清版式清洗出現交叉污染的概率更大，進(jìn)而危 及整批晶圓的良率，帶來高成(chGOTVéng)本的芯片返工支出。在 40nm 以下工藝，單片清洗設備已成(chéng)為主 流。動漫在線

清洗方法和工藝方案構成(chéng)清洗設備的技術門檻。

1) 不同的清洗方法往往構成(chéng)不同設備廠家的核心競争力，相關廠家通過(g成全MVuò)專利對(duì)各自的技術路線進(jìn) 行保護。例如對(duì)于單片清洗設備，不動漫姐姐同廠家可以選擇旋轉噴淋、兆聲波等不同方法進(jìn)行清洗。 不直播動漫同方法擁有不同的優勢，這(zhè)也給予了後(hòu)起(qǐ)玩家進(jì藝術高清版n)行差異化競争的機會(huì)。

2) 對(duì)于同一類型、相同清洗方法的設備而言，不同的硬姑娘啪啦件組合和工藝方案，也會(huì)産生明顯的設備 性能(néng)差别。對(du中文版噼裡ì)于後(hòu)起(qǐ)玩家而言，如何避免已有玩家的專利，并進(jìn)行大地成全性價比的追趕，是競争中獲 勝的核心要點。

清洗設備單台價值和毛利率均非常高。對(duì)比盛美股份和中微公司産品，我們發(fā)噼裡丁香花現，清洗設備單價高 于刻蝕設備，毛利率和刻蝕設備接近。

從單價來看，2018年盛美股份單片清洗設備單價約 2500萬元，槽式清洗設備單價姑娘高清約 1600萬 元（2019年數據，2018年沒(méi)有槽式設備數據）；高清直播而 2018年中微公司半導體刻蝕設備單價約為 800 萬元。

從利潤水平來看，2018年中微公司刻蝕設備毛利率達 47.52%，盛美股份單片清洗設備毛利率大地資源 為 44.50%，與刻蝕設備毛利率基本相當。

2.2 全球市場規模超 30 億美元，DNS 是絕對(duì)龍頭

半導體清洗設備跟随全球半導體行業景氣度共同變化。根據 Gartner數據，2019年全球半導體清中文版資源洗 設備市場規模為30.49億美元，相比2018年的34.17億美元下滑10姐姐藝術.77%，占全球半導體設備的 5%， 是第五大設備構成(chéng)。2019年大陸半導體設備全姑娘TV球占比約 23%，若假設大陸清洗設備全球占比同樣(yàng)為 23%，則 2019 高清啪啦年大陸半導體清洗設備市場規模達 7 億美元。

SEMI 最新預測，2020年、2021年全球半導體設備市場將(jiāng)分别增加 6%，1姐姐直播1%。我們假設清洗設備 占比不變，則 2020年、2021年全球半導飄雪啪啦體清洗設備市場規模將(jiāng)分别達 32.32億美元、35.87億元。

從結構來看，2019年單片清洗設備、槽式清洗設備、批式旋轉噴淋清高清MV洗設備、洗刷器等類型清洗設 備的市場規模分别為 22.76億美元、5.52億好姑娘GO美元、0.13億美元、2.08億美元，占比分别為 74.63%、 1視頻在線8.10%、0.44%、6.83%。單片清洗設備是目前市場的絕對(d成全高清版uì)主流，且随著(zhe)集成(chéng)電路特征尺寸的進(jìn)一 步縮噼裡國語小，單片清洗設備在 40nm 以下制程中的運用更加廣泛，未來占比有飄雪飄雪望逐步提高。

随著(zhe)芯片先進(jìn)制程的進(jìn)步及芯片結構的複雜化，清國語美麗洗設備市場有望量價齊升。

1) 根據摩爾定律，芯片工藝節點不斷縮小，由 12μm-0.35μm（1965年-1995 年動漫直播）到(dào) 65nm-22nm （2005年-2015年），且還(hái)在向(xiàng直播影院)更先進(jìn)的方向(xiàng)發(fā)展，如 14nm-5nm。随著(zhe)芯片工藝MV大地的不斷進(jìn)步， 清洗工序的數量大幅提高，所需的清洗設備數量也在持續增長(ch飄雪藝術áng)。

2) 當工藝尺寸達到(dào) 14nm 之後(hòu)，存儲技術將(jiāng)會(高清動漫huì)達到(dào)尺寸縮小的極限，存儲芯片逐步從二維（2D） 結構向(xiàng)高清動漫三維（3D）結構推進(jìn)。例如在 3D NAND（計算機閃存設備）制造工藝中，需將高清藝術(jiāng)原來 2D NAND 中二維平面(miàn)橫向(xiàng)排列的串聯成全好姑娘存儲單元改為垂直排列，通過(guò)增加立體層數，解決平面(miàn)上難 以微縮的工藝問題，堆資源中文版疊層數也從 32 層、64 層向(xiàng) 128 層發(fā)藝術影院展。存儲技術從 2D 向(xiàng) 3D 轉變， 清洗晶TV噼裡圓表面(miàn)的基礎上，還(hái)需在無損情況下清洗内部污染物，對(duì)清洗設好姑娘大地備提出了更高的技術要 求，清洗設備單台價值量不斷提升。

競争格局方面(miàn)，迪恩士、東京電子、拉姆研究是全球半導體清洗設備龍頭，2019年 CR3接丁香花視頻近 90%。 其中，迪恩士（DNS）是絕對(duì)龍頭，全球份額達 50%。國(g啪啦美麗uó)内公司中，盛美股份、北方華創 2019 年 全球份額分别為 3%、1%。

迪恩士：成(chéng)立于 1943 年，總部位于日本京都(dōu)，是日本半在線資源導體專用設備和 LCD 生産設備公司， 客戶遍及日本、韓國(guó)和中國(guó)台灣地區。中文版GODNS 主要産品包括清洗設備、刻蝕設備、塗膠/顯影設 備等，其中清洗設直播高清備在半導體業界具有極高的市占率，全球市占率達 50%。

東京電子：成(chéng)立于 1963 年，總部位于日本東京，主要從事(shì免費噼裡)半導體設備的研發(fā)、生産和銷售， 其主要産品包括塗布/顯像設藝術免費備、熱處理成(chéng)膜設備、幹法刻蝕設備、CVD、濕法清洗設備及測試 設備，其清成全視頻洗設備 2019 年全球份額達 27%。

拉姆研究：成(chéng)立于 1980年，總部位于美國(guó)加州弗裡(lǐ)蒙特，是向(xi飄雪飄雪àng)全球半導體産業提供晶圓制造設備和 服務的主要供應商之一。該公司的主要産品包括用于制造集成高清版中文版(chéng)電路的刻蝕設備、氣相沉積設備、電 鍍設備、清洗設備等半導體加工設備高清高清。其清洗設備 2019 年全球份額達 12%。

兩(liǎng)大類核心清洗設備中：1）單片清洗設備的全球供應商分别為迪恩士、高清版啪啦東京電子、拉姆研究、韓國(guó) SEMES、盛美股份。2019年迪恩士、東京電子、拉姆研在線美麗究份額分别為 45%、29%、16%，CR3達 到(dào)成全飄雪 90%。2）槽式清洗設備中，2019年迪恩士、東京電子、北方華創份額中文版姑娘分别為 71%、18%、7%， 迪恩士一家獨大。

2.3 本章小結

根據以上分析，我們認為：

（1）單片清洗設備憑借無交叉污染和良率優勢，已替代槽式設備成(chéng)為主流。半丁香花國語導體清洗設備單價和 毛利率均非常高。

（2）不同的清洗方法往往構成(chéng)不同設備廠家的核心競争力，相關廠家通過(資源藝術guò)專利對(duì)各自的技術路線進(jìn) 行保護。不同方法擁有不同的優勢，這(姐姐MVzhè)也給予了後(hòu)起(qǐ)玩家進(jìn)行差異化競争的機會(huì)視頻影院。對(duì)于同一類型、 相同清洗方法的設備而言，不同的硬件組合和工藝方案，飄雪資源也會(huì)産生明顯的設備性能(néng)差别。後(hòu)起(高清MVqǐ)玩家 如何避免已有玩家的專利，并進(jìn)行性價比的追趕，是其發(fā)展中關高清在線注的要點。

（3）全球清洗設備市場規模超 30億美元，大陸市場約 7億美元影院免費。随著(zhe)芯片先進(jìn)制程的進(jìn)步及芯片 結構的複雜成全啪啦化，清洗設備市場有望量價齊升。

（4）全球競争格局方面(miàn)，迪恩士是全球龍頭，市占率達 動漫中文版50%，其次是東京電子和拉姆研究，CR3 接近 90%。國(guó)内公司中，盛美股份、姑娘好姑娘北方華創 2019 年全球份額分别為 3%、1%。

三、 國(guó)産替代：差異化路線追趕，國(guó)内份額快速提升

3.1 差異化路線研發(fā)，國(guó)産單片、槽式清洗設備全方位追趕

國(guó)内半導體清洗設備企業盛正在多方位追趕。其中，盛美股份在單片清洗設備、北方華創在槽式清 視頻姐姐洗設備領域均取得了較好(hǎo)的效果。2019 年盛美股份在全球直播MV單片清洗設備份額達 4%，北方華創在槽 式清洗設備份額達 7%。

盛美股份：成(chéng)立于 2005 年，總部位于上海，是國(guó)内啪啦飄雪半導體清洗設備龍頭企業，主要産品為集 成(chéng)電路領域的單片清洗設備，其中包括單片高清姐姐 SAPS 兆聲波清洗設備、單片 TEBO兆聲波清洗設 備、單片背面(miàn)清洗設免費高清備、單片刷洗設備、槽式清洗設備和單片槽式組合清洗設備等，産品線較 為豐富。

北方華創：成(chéng)立于 2001年，是由北京七星華創和北方微電子于 201噼裡在線6年戰略重組而成(chéng)，總部位 于北京市；主要産品分為精密元器件、半導體直播啪啦設備、真空設備、锂電設備等。2018年北方華創 收購了美國(guó)半導體清洗設備公司 Ak噼裡大地rion，完善了清洗設備産線。目前公司主要清洗設備産品為 單片和槽式清洗設備，可适用于技術節國語姑娘點為 65nm、28nm 工藝的芯片制造。

芯源微：成(chéng)立于 2002 年，總部位于遼甯沈陽，主要産品包啪啦動漫括光刻工序塗膠顯影設備（塗膠/顯 影設備、噴膠設備）和單片式濕法設備（清洗設備、去MV大地膠設備、濕法刻蝕設備），可用于 6 英 寸及以下單片處理（如 LED晶圓制造國語姑娘環節）及 8/12英寸單片處理（如晶圓制造及先進(jìn)封裝環）。

至純科技：成(chéng)立于 2000 年，總部位于上海。公司産品包括高純工藝集成(chéng)丁香花成全系統、光傳感及光器 件、半導體清洗設備等，公司具備生産 8-12英寸高階單在線動漫晶圓濕法清洗設備和槽式濕法清洗設備 的相關技術，能(néng)夠覆蓋包括晶圓制免費視頻造、先進(jìn)封裝、太陽能(néng)在内多個下遊行業的市場需求。

國(guó)内企業采用差異化競争路線。從技術原理來說(shuō)，海外巨免費動漫頭清洗設備多采用旋轉噴淋技術，國(guó)内設 備廠商采取差異化研發(飄雪美麗fā)路線，積極研發(fā)兆聲波、二流體清洗法等技術實行追趕，并以盛啪啦TV美為代表， 取得了非常好(hǎo)的效果，實現了單片清洗設備在先進(jìn)工藝上的進(j動漫好姑娘ìn)口替代。

3.2 大陸芯片廠開(kāi)啟擴建大潮，清洗設備加速國(guó)産好姑娘噼裡替代

全球半導體設備市場空間龐大。根據日本半導體制造裝置協會(huì)高清MV（SEAJ）統計，2016-2018年，全球 半導體設備銷售額分别為 412.4億美元資源美麗、566.2億美元、645.3億美元，同比增長(cháng) 13%、3視頻國語7%、14%， 呈現三年景氣向(xiàng)上周期。2019 年受貿易戰等多方面(miàn)資源好姑娘因素影響，全球半導體設備銷售額下滑 7%至 597.5 億美元。飄雪動漫2020 年一季度，全球半導體設備銷售額達 155.70億美元，同比增長(cháng)13視頻TV%。

中國(guó)大陸半導體設備連續多年景氣向(xiàng)上。201大地MV3-2019年中國(guó)大陸半導體設備市場持續 6年景氣向(xiàng)上。 2019視頻資源 年盡管全球半導體設備銷售額下滑，但大陸半導體設備依然實現正增長(cháng)，同比免費美麗增長(cháng) 3%至 134.5 億美元，占全球比重達 23%。2飄雪在線020年一季度，大陸半導體設備銷售額達 35.0億美元，同比增長(cháng) 48%，中文版高清版 維持高景氣趨勢。

半導體設備國(guó)産化率提升空間巨大。根據中國(guó)電子專用設備工業協會(huì)統計，2丁香花國語019年我國(guó)國(guó)産半導體 設備銷售收入約 67億元人民币，按照 1:7彙率藝術成全換算，2019年我國(guó)半導體設備國(guó)産化率僅為免費國語 7%，其 中半導體清洗設備國(guó)産化率僅約為 13%。

半導體設備國(guó)産替代機會(huì)來自于國(guó)内晶圓廠直播美麗的擴産。根據芯思想研究院統計數據，截至 2019年底， 中國(guó)大陸共有 14 條 8 英寸啪啦高清版及以上的産線在建，同時(shí) 12 條線産能(néng)正在爬坡，此外 7 條線規劃中。

除上述産能(néng)外，中芯國(guó)際和長(cháng)江存儲作為國好姑娘啪啦(guó)内代工廠和存儲廠的代表，2020年以來，多次公布新的 擴産計劃。

中芯國(guó)際進(jìn)一步擴産將(jiāng)帶來新的設備需求。成全視頻2020 年，中芯國(guó)際登錄科創闆，募集資金 457 億 元，用于 12英寸芯片 SN姐姐MV1項目、成(chéng)熟工藝生産線建設項目、先進(jìn)及成(chéng)熟工藝研發(fā國語好姑娘)項目和補充 流動資金，公司計劃將(jiāng) 14nm 及以下産能(néng)從當前的成全姐姐 6千片/月提高到(dào) 3.5萬片/月。此外，公司近 期與北京管委會(huì)簽美麗在線訂合作框架協議，成(chéng)立合資公司聚焦于生産 28納米及以上資源飄雪集成(chéng)電路項目（公 司控股 51%），項目首期規劃是10 萬片/月的 12 英寸成全影院晶圓産能(néng)。

2020 年 6 月，長(cháng)江存儲二期開(kāi)工建設。長(ch中文版高清版áng)江存儲為國(guó)家存儲器基地項目，總投資達 240 億美 美麗高清版元，分兩(liǎng)期建設，一期項目期主要實現技術突破，并建成(chéng) 1中文版TV0 萬片/月産能(néng)；二期規劃産能(néng) 20 萬片/月，兩(liǎ影院姑娘ng)期項目達産後(hòu)月産能(néng)共計 30萬片。項目一期 2016年開(直播美麗kāi)工建設，截至 2019年底産 能(néng)約 2萬片/月，預計 2020年底産能(néMV姑娘ng)將(jiāng)達到(dào) 5萬片/月。随著(zhe)一期高清藝術産能(néng)持續爬坡，和二期的開(kāi)工 建設，長(cháng)江存儲將(jiāng)為國噼裡影院(guó)内半導體設備商帶來巨大的訂單機會(huì)。

在國(guó)産芯片廠産能(néng)擴張中，優秀的國(guó)産動漫視頻設備商不斷進(jìn)取，把握住了重要機會(huì)。在半導體清洗設備領 高清版噼裡域，盛美股份憑借創新的技術優勢，取得了顯著的進(jìn)步。據中國(guó)國(飄雪大地guó)際招标網數據，長(cháng)江存儲第 14-38 批設備招标中，公布了 88 台清洗設備國語資源中标名錄，其中迪恩士、盛美股份、拉姆研究占據榜單前三， 中标台數分别為 25美麗大地 台、18 台、16 台，份額分别為 28%、20%、18%。盛美股份獲得 高清版大地20%的清洗 設備份額，遠高于其全球 3%的份額。北方華創中标了 2台清洗設備，占比為 2視頻噼裡%，亦高于其全球 1% 的份額。

3.3 本章小結

根據以上分析，我們可以得出以下幾點結論：

（1）國(guó)際清洗設備巨頭多采用旋轉噴淋技術，國(guó)内清洗設備廠商采用成全GO差異化路線進(jìn)行追趕，如盛美 股份、北方華創研發(fā)兆大地影院聲波清洗技術，芯源微研發(fā)二流體清洗技術，并取得了不錯的成(chéng高清版噼裡)效。

（2）目前大陸集成(chéng)電路設備自主化率僅為 7%，國(guó)産替代空間巨好姑娘TV大。大陸將(jiāng)開(kāi)啟芯片投資大潮，新 建、産能(néng)爬坡、規劃的芯片啪啦動漫産線衆多，有望為國(guó)産半導體設備商帶來重要機會(hu姑娘直播ì)。

（3）在長(cháng)江存儲近幾年的半導體清洗設備招标中，盛美股份獲得 20%的清洗設備份高清版視頻額，北方華創 份額為 2%，均高于其全球平均水平。國(guó動漫姐姐)産清洗設備廠有望把握國(guó)産芯片産線擴産大潮，提高市占率。

四、 投資建議（略）

我們認為，國(guó)産半導體清洗設備廠商迎來行業擴容和國(g成全中文版uó)産替代的雙重機遇：一方面(miàn)，随著(zhe)芯片姑娘動漫工藝 的進(jìn)步及芯片結構的複雜化，清洗設備量價齊升，行業規模有望進(jìn)一步擴容免費噼裡；另一方面(miàn)，受益于國(guó) 内芯片産線的加速建設和産能(影院啪啦néng)爬坡，國(guó)内清洗設備廠商通過(guò)差異化路線追趕，份額有望快影院丁香花速提升。